かつてトランスには絶縁油としてPCBが使用されていましたが、PCBは毒性があり、現在では使用禁止物質となっています。PCBで汚れたトランスからPCBを除染する技術はつい最近までありませんでした。
ところが超臨界技術を用いることで、簡単に除染が可能になりました。汚染されたトランスをエントレーナーとしてのn-ヘキサンを含む超臨界二酸化炭素流体を処理すると、ほぼ100％除染することができます。

半導体素子や液晶ディスプレイデバイスなどの製造工程では、パターン形成のためにフォトレジストが用いられます。
基板の上に塗布されたレジストにパターンを焼付け、超臨界水で現像及び超臨界二酸化炭素でリンス処理を行った後、常圧にすると瞬時に乾燥させることができます。
この方法では乾燥時の水滴が発生しないので、歩留まりを高めることができます。